Etude SoonJung Panthensoside Sheet Mask - 25 ml

Nyugtató bambusz maszk Etude SoonJung Panthensoside Sheet Mask Érzékeny és irritált bőrre. A panthenol, madecassoside és Centella Asiatica alapú formula intenzíven nyugtatja, regenerálja és hidratálja, megkönnyebbülést hozva a fáradt bőrnek.

Az Etude SoonJung Panthensoside Sheet Mask egy maszk, amelyet a kényes ápolást igénylő bőr számára fejlesztettek ki. A minimalista formula bambuszlapokkal tökéletesen illeszkedik az arcra, és intenzív adag nyugtató és regeneráló hatóanyagokat juttat a bőrbe.

Panthenollal, madekassziddel és Centella Asiatica kivonattal dúsított maszk hatékonyan nyugtatja az irritációt, elősegíti a regenerálódást és mély hidratálást biztosít. Ideális stresszes nap után vagy az érzékeny bőr rendszeres ápolásának részeként.

Összetevők, amelyeket imádni fogsz:

• Pantenol - intenzíven hidratál, nyugtatja és elősegíti a bőr regenerálódását.
• Madekaszid - a Centella Asiatica, összetevője gyulladáscsökkentő és regeneráló hatással rendelkezik.
• Centella asiatica kivonat - megnyugtatja az irritációkat és serkenti a regenerációs folyamatokat.
• Allantoina - megnyugtatja az irritált bőrt és minimalizálja a bőrpírt.
• Trehalóz és arginin - hidratálnak, lágyítják és erősítik a bőr védőrétegét.

Cél:

Érzékeny, érrendszeri, irritált és száraz bőrre kifejlesztett maszk. Ideális napozás után, kozmetikai beavatkozások után, vagy amikor a bőrnek nyugtatásra és regenerálódásra van szüksége. Alkalmas rendszeres ápolásra, nyugtató rutin részeként.

Használati mód:

Vigye fel a maszkot a megtisztított arcra, a bőr alakjához igazítva. Hagyja hatni 15-20 percig, majd távolítsa el, és finoman tapogassa be a maradék esszenciát a bőrbe. Ne öblítse le. Első használat előtt végezzen érzékenységi tesztet.

Összetevők:

Víz, Dipropilénglikol,1,2-Hexanediol, Panthenol, Madecassoside, Centella Asiatica Leaf Extract, Carbomer, Polyglyceryl-10 Laurate, Glycerin, Polyglyceryl-10 mirisztát, Allantoin, Arginin, Trehalóz, Etilhexilglicerin, Dinátrium-EDTA.